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    日本大冢電子nanoSAQLA納米粒度測定儀的技術解析

    發(fā)布時間: 2025-07-14  點擊次數: 10次
      日本大冢電子(Otsuka)推出的nanoSAQLA納米粒度測定儀是一種基于動態(tài)光散射(DLS)技術的粒度測量裝置。該設備能夠測量粒徑范圍在0.6nm至10μm之間的顆粒,適用于從稀薄到濃厚系的廣泛濃度范圍的多檢體測定。nanoSAQLA采用了新的光學系統(tǒng),實現了實驗室所需的輕量化、小型化,并且標準測量時間為1分鐘,提供了高速測定的能力。此外,該設備是非浸泡型設計,不受接觸器影響,無需自動取樣器,標配“5檢體連續(xù)測量”功能,為用戶帶來了極大的便利。
     
      nanoSAQLA的光源采用高功率半導體激光(660nm、70mW),配備高感度APD檢測器,能夠連續(xù)測量最多5個樣品。測量范圍為0.6nm至10μm,濃度范圍為0.00001%至40%,溫度范圍為0至90℃,并具備溫度梯度功能。樣品容量適用于四面透光比色皿(1.2mL以上)和微量比色皿(20μL以上),設備的尺寸為W240 X D480 X H375 mm,重量約為18 kg。
     
      軟件方面,nanoSAQLA配備了平均粒徑分析(累積量法)、粒徑分布解析等功能,支持Marquardt法、Contin法、NNLS/Unimodal法等多種分析方法。此外,設備還具備粒度分布重疊、逆相關數殘差Plot、粒徑監(jiān)測等功能,粒徑表示范圍為0.1至106 nm。設備還符合21 CFR Part11標準,可選配微量樣品池(20μL起對應)和熒光濾光片。
     
      nanoSAQLA納米粒度測定儀以其高精度、高效率和靈活性,在科研和工業(yè)應用中發(fā)揮著重要作用,是實現精確粒度控制的理想選擇。
     
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